Основные функции и ключевые приложения

Инертная защита (антиокислительная/предотвращение влаги): Химически стабильный азот изолирует кислород и влагу, тем самым предотвращая окисление или загрязнение чувствительных материалов, таких как кремниевые пластины, металлические межсоединения и фоторезисты. Типичные сценарии включают: хранение/транспортировку пластин, фоторезистивное покрытие, осаждение тонких пленок CVD/ALD, быстрый термический отжиг (RTA) и соединение проводов.

Управление технологическим процессом и транспортирующий газ: Он действует как газ-носитель для транспортировки прекурсоров, обеспечивая их равномерную доставку в реакционную камеру. Он также служит в качестве разбавляющего или фонового газа для стабилизации плазмы, регулирования скорости реакции и повышения однородности тонкой пленки, а также точности профиля травления. Типичные сценарии включают: CVD/ALD, плазменное травление и буферную ионную имплантацию.

Очистка и очистка: Он тщательно очищает камеры оборудования и трубопроводы от остаточных веществ, предотвращая перекрестное загрязнение. Кроме того, он поддерживает положительное давление в чистых помещениях и устанавливает защитные воздушные завесы. Типичные сценарии включают: переключение камер в инструментах для литографии/травления, переключение газопроводов и поддержание положительного давления в чистых помещениях.

Вспомогательные и специализированные приложения: Защита чипов во время высокотемпературных процессов; ингибирование окисления припоя и повышение смачиваемости во время оплавления SMT и пайки волной припоя; минимизация поверхностного окисления во время лазерной обработки; и обеспечение инертной среды хранения для чувствительных компонентов (таких как магнитные головки и светодиоды) для снижения частоты отказов.